RIV/67985858:_____/01:27013070 - Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition of Selenium Films by KrF Laser Photolysis of Dimethyl Selenium. (2001)
| Údaje o výsledku | |
| Identifikační kód | RIV/67985858:_____/01:27013070 |
| Název v původním jazyce | Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition of Selenium Films by KrF Laser Photolysis of Dimethyl Selenium. |
| Druh | J - Článek v odborném periodiku |
| Jazyk | eng - angličtina |
| Obor | CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie |
| Rok uplatnění | 2001 |
| Kód důvěrnosti údajů | S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů |
| Počet výskytů výsledku | 1 |
| Tvůrci výsledku | |
| Počet tvůrců celkem | 4 |
| Počet domácích tvůrců | 1 |
| Tvůrce | Pola Josef (státní příslušnost: CZ - Česká republika; A - domácí tvůrce; G - garant výsledku) |
| Tvůrce | Bastl Zdeněk (státní příslušnost: CZ - Česká republika) |
| Tvůrce | Šubrt Jan (státní příslušnost: CZ - Česká republika) |
| Tvůrce | Ouchi A. (státní příslušnost: JP - Japonsko) |
| Údaje blíže specifikující výsledek | |
| Popis v původním jazyce | Krf laser-induced photolysis of gaseous dimethyl selenium in excess of helium is controlled by cleavage of both Se-C bonds and affords ethane as a very dominant gaseous product together with elemental selenium. The photolysis mechanism being different from that of thermolysis shows potential for chemical vapour deposition of selenium films not contaminated with carbon impurities. |
| Klíčová slova | N/A |
| Název periodka | Applied Surface Science |
| Rozsah stran | 220;224 |
| ISSN | 0169-4332 |
| Svazek periodika | 172 |
| Číslo periodika v rámci uvedeného svazku | 3-4 |
| Stát vydavatele periodika | NL - Nizozemské království |
| Počet stran výsledku | 4 |
| Údaje o tomto záznamu o výsledku | |
| Předkladatel | Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. |
| Dodavatel | AV0 - Akademie věd České republiky (AV ČR) |
| Rok sběru | 2003 |
| Systémové označení dodávky dat | RIV/2003/AV0/A27003/N/2:2 |
| Datum dodání | 4.3.2004 |
| Specifikace | RIV/67985858:_____/01:27013070!RIV/2003/AV0/A27003/N |
| Kontrolní kód | [201728A7214A] |
| Jiný výskyt tohoto výsledku se v RIV nenachází | |
| Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl | |
| Projekt | ME 191 - Zvýšení kontroly průběhu fotochemických reakcí účinkem laserového záření (1998-2000, MSM/ME) |
| Výzkumný záměr | AV0Z4032918 - Příprava a struktura nových sloučenin, klastrů a kompozitů na bázi anorganických látek; mechanismy přeměny a přenosu (1999-2004, AV0) |
| Výzkumný záměr | AV0Z4040901 - Objasňování zákonitostí vztahů struktury a vlastností - zejména dynamiky a chemické reaktivity - látek a molekulárních systémů (1999-2004, AV0) |
| Výzkumný záměr | AV0Z4072921 - Teoretické základy chemických procesů: rovnovážné a dynamické chování vícefázových reagujících soustav (1999-2004, AV0) |
Tuto aplikaci pro Radu pro výzkum, vývoj a inovace provozuje Výpočetní a informační centrum Českého vysokého učení technického v Praze. Vyvíjí InfoScience Praha s.r.o.. Verze aplikace 1.6.15. Datové schéma ISVAV_WEB5_00318.
Podpora uživatelů na e-mailové adrese 
nebo telefonním čísle 224 234 797 (v pracovních dnech 8-16 hod.).
nebo telefonním čísle 224 234 797 (v pracovních dnech 8-16 hod.).