• česky
  • english
Přejít na obsah | Přejít na menu

Informační systém výzkumu, experimentálního vývoje a inovací
výzkum, vývoj a inovace podporované z veřejných prostředků ČR

    • Poskytovatelé podpory ve výzkumu, vývoji a inovacích (RPO)
    • Programy výzkumu, vývoje a inovací (RPG)
    • Subjekty ve výzkumu, vývoji a inovacích (RPR)
  • Veřejné soutěže ve výzkumu, vývoji a inovacích (VES)
  • Projekty výzkumu, vývoje a inovací (CEP)
  • Výzkumné záměry (CEZ)
  • Výsledky výzkumu, vývoje a inovací (RIV)

RIV/00216208:11320/04:00003583 - EELS and AES investigation of Rh thin film growth on polycrystalline Al substrate (2004)

Údaje o výsledku
Identifikační kódRIV/00216208:11320/04:00003583
Název v původním jazyceEELS and AES investigation of Rh thin film growth on polycrystalline Al substrate
Název českyVýzkum růstu tenkých Rh vrstev na polykrystalické Al podložce metodami EELS a AES
DruhJ - Článek v odborném periodiku
Jazykeng - angličtina
OborBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Rok uplatnění2004
Kód důvěrnosti údajůS - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
Počet výskytů výsledku2
Tvůrci výsledku
Počet tvůrců celkem4
Počet domácích tvůrců3
TvůrceHrnčíř Tomáš (státní příslušnost: CZ - Česká republika; A - domácí tvůrce; G - garant výsledku)
TvůrceMatolín Vladimír (státní příslušnost: CZ - Česká republika; A - domácí tvůrce)
TvůrceNehasil Václav (státní příslušnost: CZ - Česká republika; A - domácí tvůrce)
Údaje blíže specifikující výsledek
Popis v původním jazyceEELS and AES investigation of Rh thin film growth on polycrystalline Al substrate
Popis českyVýzkum růstu tenkých Rh vrstev na polykrystalické Al podložce metodami EELS a AES
Klíčová slovainvestigation;growth;polycrystalline;substrate
Název periodkaVacuum
Rozsah stran141;145
ISSN0042-207X
Svazek periodika74
Číslo periodika v rámci uvedeného svazku2
Stát vydavatele periodikaNL - Nizozemské království
Počet stran výsledku5
Údaje o tomto záznamu o výsledku
PředkladatelUniverzita Karlova v Praze / Matematicko-fyzikální fakulta
DodavatelGA0 - Grantová agentura České republiky (GA ČR)
Rok sběru2005
Kód nejnižší organizační jednotky podílející se na výsledku11320
Systémové označení dodávky datRIV/2005/GA0/113205/N/1:1
Datum dodání14.7.2005
SpecifikaceRIV/00216208:11320/04:00003583!RIV/2005/GA0/113205/N
Kontrolní kód[C5260E9CBDD7]
Další výskyty tohoto výsledku od stejného předkladatele
Dodáno MŠMT v roce 2005Záznam s identifikačním kódem RIV/00216208:11320/04:00003583 v dodávce dat RIV/2005/MSM/113205/N/1:1
Odkazy na výzkumné aktivity, při jejichž řešení výsledek vznikl
ProjektGA202/02/0618 - Reaktivita bimetalických systémů s,p-(Al,Sn) a přechodových kovů (Pd,Rh): Studium objemových slitin a rozhraní bimetalických vrstev a oxidů (2002-2004, GA0/GA)
ProjektGA202/99/1714 - Reaktivita bimetalických systémů: Interakce jednoduchých molekul (CO,H2,NO,O2,...) s kombinacemi kovů VB., resp. VIB. a VIII. skupiny (1999-2001, GA0/GA)
ProjektVS97116 - Laboratoř fyziky tenkých vrstev a povrchů (1997-2000, MSM/VS)
Výzkumný záměrMSM 113200002 - Kondenzované systémy - nové technologie a materiály (1999-2004, MSM)
Tuto aplikaci pro Radu pro výzkum, vývoj a inovace provozuje Výpočetní a informační centrum Českého vysokého učení technického v Praze. Vyvíjí InfoScience Praha s.r.o.. Verze aplikace 1.6.15. Datové schéma ISVAV_WEB5_00305. Podpora uživatelů na e-mailové adrese podpora (zavináč) isvav (tečka) cz nebo telefonním čísle 224 234 797 (v pracovních dnech 8-16 hod.).