• česky
  • english

OC 516.50 - Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami (1998-2000, MSM/OC)

Údaje o projektu
Identifikační kódOC 516.50
Důvěrnost údajůS - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
Název v původním jazycePříprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami
PoskytovatelMSM - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy (MŠMT)
ProgramOC - COST (1993-2012)
Hlavní oborBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Vedlejší oborBL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Další vedlejší oborJK - Koroze a povrchové úpravy materiálu
Zahájení řešení06/1998
Ukončení řešení12/2000
Poslední stav řešeníU - Ukončený projekt, tj. jednoletý nebo víceletý projekt, který skončil v předcházejícím roce, v příslušném roce sběru dat jsou dodány údaje vztahující se k jeho ukončení
Finance projektu
Období199819992000celkem
Výše podpory ze státního rozpočtu400 tis. Kč310 tis. Kč330 tis. Kč1 040 tis. Kč
Celkové uznané náklady550 tis. Kč460 tis. Kč480 tis. Kč1 490 tis. Kč
Typskutečně čerpanéskutečně čerpanéskutečně čerpané
Cíle řešení v původním jazyceHlavním cílem projektu je vývoj technologií přípravy otěruvzdorných vrstev s nízkým koeficientem tření. Tyto vrstvy budou deponovány pomocí RF a DC magnetronů a pomocí RF plazma-chemických systémů s několika dutými katodami. Připravované jedno- a vícevrstvé struktury, případně vrstvy z kompozitních materiálů a jejich kombinace musí mít vysokou tvrdost, dobrou přilnavost , malé vnitřní pnutí, nízký třecí koeficient a vysokou odolnost proti otěru. Budou připravovány vrstvy Ti-, Zr-, W-C:H, DLC, CNx, CNxHy, CNxOy, Cu3N, AlN, Al2O3 a pod. Bude objasňována fyzikální podstata tribologických vlastností vrstev. Budou optimalizovány technologické parametry k dosažení požadovaných charakteristik.
Hodnocení výsledkůU - Uspěl podle zadání, tj. byly splněny cíle a jeho předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory
Zhodnocení výsledků řešení českyProjekt byl úspěšně ukončen (viz závěrečná zpráva).
Rok dodání údajů do CEP2001
Systémové označení dodávky datCEP/2001/MSM/MSM1OC/U/N/2:1
Účastníci projektu
Počet příjemců1
Počet dalších účastníků projektu0
PříjemceFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
ŘešitelIng. Bc. František Fendrych (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
Poznámka: Finance účastníků projektu jsou sledovány od roku 2007
Výsledky projektu v RIV
Počet výsledků v RIV3
Výsledek druhu VRIV/68378271:_____/01:00024675 - Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50) (2001)
Výsledek druhu DRIV/68378271:_____/00:00024671 - Some mechanical properties of DLC and CNx coatings deposited by reactive sputtering or plasma-chemical techniques (2000)
Výsledek druhu JRIV/68378271:_____/99:00024653 - Contribution to the application of the Langmuir probe techique for plasma monitoring in the Ar and n-hexane mixture plasma during the polymerisation process (1999)