• česky
  • english

GP106/02/P015 - Vývoj a adaptace techniky pulsní laserové depozice pro růst gradientních a nanostrukturních vrstev (2002-2004, GA0/GP)

Údaje o projektu
Identifikační kódGP106/02/P015
Důvěrnost údajůS - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
Název v původním jazyceVývoj a adaptace techniky pulsní laserové depozice pro růst gradientních a nanostrukturních vrstev
PoskytovatelGA0 - Grantová agentura České republiky (GA ČR)
ProgramGP - Postdoktorandské granty (1998-…)
Kategorie VaVZV - Základní výzkum
Hlavní oborBL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Vedlejší oborJJ - Ostatní materiály
Další vedlejší oborBH - Optika, masery a lasery
Zahájení řešení01/2002
Ukončení řešení12/2004
Zahájení poskytování účelové podpory01/2002
Ukončení poskytování účelové podpory12/2004
Poslední stav řešeníU - Ukončený projekt, tj. jednoletý nebo víceletý projekt, který skončil v předcházejícím roce, v příslušném roce sběru dat jsou dodány údaje vztahující se k jeho ukončení
Finance projektu
Období200220032004celkem
Výše podpory ze státního rozpočtu171 tis. Kč189 tis. Kč172 tis. Kč532 tis. Kč
Celkové uznané náklady292 tis. Kč310 tis. Kč293 tis. Kč895 tis. Kč
Typskutečně čerpanéskutečně čerpanéskutečně čerpané
Druh soutěžeVS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
Veřejná soutěž ve výzkumu, vývoji a inovacíchSGA02002GA-PD - Veřejná soutěž (GA0/GP)
Cíle řešení v původním jazyceProjekt si klade za cíl vyvinout technologii přípravy tenkých nanostrukturních a gradientních vrstev pomocí pulsní laserové depozice. Podstatou je přesně definovaný strukturní nebo koncentrační profil přes celou tloušťku vrstvy. Pro vytvoření takovévrstvy je zapotřebí, aby všechny parametry depozice byly spolehlivě řízeny a definovatelně měněny během depozičního procesu. To je proveditelné jen za pomocí počítačem řízeného depozičního systému, vzhledem k tomu, že růst nanometrových komponentstruktury má trvání třeba jen zlomků sekundy a počet těchto komponent může být několik desítek až stovek. V první fázi předpokládáme modifikování již vybudovaného depozičního systému pro pulsní laserovou depozici. V návaznosti na nosný projekt budevyužito hybridního depozičního systému. Hlavní změny budou spočívat v plném napojení depozičního procesu na počítač, umožňujíce spouštění výstřelů laseru do terče, automatické výměny terčů různých materiálů, řízení průtoků plynů v depoziční komoře, tlaku
Klíčová slova v anglickém jazyceNeuvedeno.
Hodnocení výsledkůU - Uspěl podle zadání, tj. byly splněny cíle a jeho předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory
Zhodnocení výsledků řešení českyV rámci projektu byla modifikována depoziční komora tak, aby byla umožněna depozice vícevrstvých struktur. Mezi hlavní úpravy patří: počítačem řízená výměna terčů, magnetron opatřený pneumatickou závěrkou, vstupně - výstupní počítačové rozhraní pro řízen
Rok dodání údajů do CEP2005
Systémové označení dodávky datCEP/2005/GA0/GA05GP/U/N/A:8
Datum dodání záznamu23.7.2008
Účastníci projektu
Počet příjemců1
Počet dalších účastníků projektu0
PříjemceFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
ŘešitelIng. Jiří Bulíř, Ph.D. (státní příslušnost: CZ - Česká republika; tel.: 266 052 645; fax: 286 890 527)
Poznámka: Finance účastníků projektu jsou sledovány od roku 2007
Výsledky projektu v RIV
Počet výsledků v RIV2
Výsledek druhu JRIV/68378271:_____/05:00025239 - Plasma study and deposition of DLC/TiC/Ti multilayer structures using technique combining pulsed laser deposition and magnetron sputtering (2005)
Výsledek druhu JRIV/68378271:_____/03:02030248 - Study of plasma processes during pulsed laser ablation of graphite target in nitrogen. (2003)