• česky
  • english

GA106/06/0327 - Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev (2006-2008, GA0/GA)

Údaje o projektu
Identifikační kódGA106/06/0327
Důvěrnost údajůS - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
Název v původním jazyceKrystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev
PoskytovatelGA0 - Grantová agentura České republiky (GA ČR)
ProgramGA - Standardní projekty (1993-…)
Kategorie VaVZV - Základní výzkum
Hlavní oborBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Zahájení řešení1.1.2006
Ukončení řešení31.12.2008
Datum posledního uvolnění účelové podpory25.4.2008
Číslo smlouvy106/06/0327
Poslední stav řešeníU - Ukončený projekt, tj. jednoletý nebo víceletý projekt, který skončil v předcházejícím roce, v příslušném roce sběru dat jsou dodány údaje vztahující se k jeho ukončení
Finance projektu
Období200620072008celkem
Výše podpory ze státního rozpočtu1 001 tis. Kč945 tis. Kč938 tis. Kč2 884 tis. Kč
Celkové uznané náklady1 001 tis. Kč945 tis. Kč938 tis. Kč2 884 tis. Kč
Typskutečně čerpanéskutečně čerpanéskutečně čerpané
Druh soutěžeVS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
Veřejná soutěž ve výzkumu, vývoji a inovacíchSGA02006GA-ST - Veřejná soutěž (GA0/GA)
Cíle řešení v původním jazyceVlastnosti tenkých vrstev podstatně závisí na jejich reálné struktuře případně krystalinitě. Vlastnosti tenkých vrstev podstatně závisí na jejich reálné struktuře případně krystalinitě. Krystalizace amorfním a nanokrystalických vrstev bude sledována pro dva případy - vrstvy TiO2, které v poslední době nalezají aplikace v různých odvětvích průmyslu, zejména díky fotokatalytické aktivitě a samočístícím vlastnostem a pro tvrdé amorfní až nanokrystalické vrstvy zejména v systému Zr-Si-N. V prvním případě jecílem snížit teplotu krystalizace, ve druhém naopak zvýšit. Vrstvy TiO2 budou navíc dopovány vhodnými prvky za účelem posunu zakázaného pásu do viditelné oblasti. Reálná struktura vrstev a její vývoj s teplotou budou studovány pomocí komplexní charakterizace rtg difrakcí a reflexí, tzn. fázové složení, mikrodeformace, zbytková napětí, tloušťka vrstev, drsnost povrchu, analýza velikostí a tvaru  krystalitů a jejich přednostní orientace. A to jak pro žíhané vrstvy, tak i in-situ měřeními.
Klíčová slova v anglickém jazycenanocrystalline thin films; crystallization; titanium oxides; X-ray diffraction
Hodnocení výsledkůV - Vynikající výsledky (s mezinárodním významem apod.). Zároveň byly splněny cíle a předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory.
Zhodnocení výsledků řešení českyHlavní pozornost byla soustředěna na krystalizaci vrstev TiO2 s cílem získat nanokrystalické vrstvy vykazující po UV ozáření hydrofilicitu a antibakteriální vlastnosti. Pomocí různého žíhání amorfních vrstev a in-situ rtg difrakčních meření byla stanoven
Rok dodání údajů do CEP2009
Systémové označení dodávky datCEP09-GA0-GA-U/02:2
Datum dodání záznamu22.10.2009
Účastníci projektu
Počet příjemců1
Počet dalších účastníků projektu1
Příjemce / Organizační jednotka garantující řešeníUniverzita Karlova v Praze / Matematicko-fyzikální fakulta
ŘešitelDoc. RNDr. Radomír Kužel, CSc. (státní příslušnost: CZ - Česká republika; tel.: 221 911 394; fax: 224 911 061)
Další účastník projektu / Organizační jednotka garantující řešeníZápadočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd
ŘešitelProf. Ing. Jindřich Musil, DrSc. (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
Finance účastníků projektu
Poznámka: Finance účastníků projektu jsou sledovány od roku 2007
Výše podpory ze státního rozpočtu
Účastník20072008
Univerzita Karlova v Praze / Matematicko-fyzikální fakulta502 tis. Kč490 tis. Kč
Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd443 tis. Kč448 tis. Kč
Celkové uznané náklady
Účastník20072008
Univerzita Karlova v Praze / Matematicko-fyzikální fakulta502 tis. Kč490 tis. Kč
Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd443 tis. Kč448 tis. Kč
Výsledky projektu v RIV
Počet výsledků v RIV16
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/09:00501499 - Protective Zr-containing SiO2 coatings resistant to thermal cycling in air up to 1400 °C (2009)
Výsledek druhu JRIV/00216208:11320/09:00206793 - Time and thickness dependence of crystallization of amorphous magnetron deposited TiO2 thin films (2009)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/09:00501503 - Two-Functional Direct Current Sputtered Silver-Containing Titanium Dioxide Thin Films (2009)
Výsledek druhu DRIV/49777513:23520/08:00500786 - Complex XRD studies of crystallization of amorphous and nanocrystalline magnetron-deposited TiO2 films with different thickness (2008)
Výsledek druhu JRIV/00216208:11320/08:00206839 - Magnetron Deposited TiO2 Thin Films - Crystallization and Temperature Dependence of Microstructure and Phase Composition (2008)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/08:00500293 - Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C (2008)
Výsledek druhu DRIV/49777513:23520/08:00500791 - XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films (2008)
Výsledek druhu DRIV/49777513:23520/07:00000030 - Decomposition of organic dyes with sputtered TiO2 photocatalytic films (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00000033 - Growth of magnetron sputtered TiO2 thin films studied by X-ray scattering (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00502196 - High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00000003 - Magnetron deposited TiO2 thin films crystallization and temperature dependence of microstructure and phase composition (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00000022 - Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00000055 - Structural studies of crystallization and growth of magnetron deposited TiO2 thin films by X-ray diffraction and reflectivity (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/07:00000024 - Study of crystallization of magnetron sputtered TiO2 thin films by X-ray scattering (2007)
Výsledek druhu JRIV/49777513:23520/06:00000017 - Growth of nanocrystalline magnetron sputtered TiO2 thin films studied by X-ray scattering (2006)
Výsledek druhu JRIV/00216208:11320/06:00003011 - X-ray scattering study of crystallization of magnetron sputtered TiO2 thin films (2006)